.png){kind=logo}
Filtr KF Concept Nano-X Black Mist 1/4 do Fuji X100/X100F/X100S/X100T/X100V/X100VI KF01.2883
Kod: 38368Produkty powiązane
Opis szczegółowy produktu
KF Concept Nano-X Black Mist 1/4 to kreatywny filtr zaprojektowany specjalnie do aparatów Fujifilm X100, X100F, X100S, X100T, X100V i X100VI. Tworzy delikatny efekt mgły z redukcją kontrastu i ostrości, który zmiękcza skórę, tłumi niedoskonałości i dodaje ujęciom filmowej atmosfery.
Filtr wykonany jest z wysokiej jakości japońskiego szkła optycznego z 28-warstwową nanopowłoką, która zapewnia wysoką przepuszczalność światła, wodoodporność, olejoodporność i odporność na zarysowania, a także minimalizację odblasków. Rama CNC z antypoślizgowym trapezowym wzorem ułatwia obsługę, a jej magnetyczna konstrukcja umożliwia łączenie z magnetycznymi filtrami 52 mm bez ograniczania użycia oryginalnej osłony obiektywu.
| SPECYFIKACJA TECHNICZNA | |
|---|---|
| Kompatybilność: | Fuji X100/X100F/X100S/X100T/X100V/X100VI |
| Materiał: | aluminium lotnicze |
| Typ filtra: | Czarna mgła |
| Dyfuzja: | 1/4 |
| ZAWARTOŚĆ OPAKOWANIA | |
|---|---|
| 1) Filtr KF Concept Nano-X Black Mist 1/4 do Fuji X100/X100F/X100S/X100T/X100V/X100VI | |
| 2) Etui |
Bądź pierwszą osobą, która napisze opinię do tego produktu.
| Firma produkcyjna : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adres : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |