KF Concept Nano-X PRO MC UV filtr premium do Leica Q3 43/Q3 28/Q3/Q2 KF01.3235
Kod: 40012Produkty powiązane
Opis szczegółowy produktu
KF Concept Nano-X PRO MCUV dla Leica
Premium filtr UV zaprojektowany dla Leica Q3 43, Q3 28, Q3 i Q2. Łączy precyzyjnie wykonane szkło optyczne, 36-warstwową powłokę nano oraz wyjątkowo cienką mosiężną oprawę.

Zaawansowana powłoka nano ogranicza odblaski, a jednocześnie chroni szkło przed wodą, tłuszczem i zarysowaniami.
Bardzo niska odblaskowość pomaga eliminować ghosting i flary, szczególnie podczas fotografowania pod światło.
Mosiądz obrabiany CNC zapewnia precyzyjny gwint, najwyższą jakość wykonania oraz wysoką odporność mechaniczną.
Woda, tłuszcz ani codzienne użytkowanie nie stanowią problemu
Powierzchnia filtra jest hydrofobowa, oleofobowa i odporna na zarysowania. Krople wody i zanieczyszczenia rzadziej przylegają do szkła, dzięki czemu filtr jest łatwiejszy w czyszczeniu i lepiej znosi codzienne użytkowanie.

Premium szkło optyczne bez zbędnych kompromisów
Precyzyjnie wykonany element optyczny został zaprojektowany tak, aby zachować wysoką ostrość, detale i naturalne odwzorowanie obrazu nawet w aparatach o wysokiej rozdzielczości.

Minimum odblasków nawet w trudnych warunkach pod światło
Zaawansowana 36-warstwowa powłoka nano redukuje odblaskowość do zaledwie 0,1 %. Dzięki temu pomaga ograniczyć niepożądane odblaski i ghosting, zachowując czystszy obraz o wyższym kontraście.

Bez utraty ostrości
Każdy element optyczny jest precyzyjnie szlifowany przy użyciu maszyn polerskich Makita dla zapewnienia maksymalnej dokładności i koncentryczności. Konstrukcja została zaprojektowana z myślą o zachowaniu subtelnych detali nawet w matrycach 60MP aparatów Leica.

Nowa oprawa mosiężna obrabiana CNC
Zamiast zwykłego stopu aluminium, Nano-X PRO wykorzystuje wysokiej jakości mosiądz. Materiał zapewnia premiumowy wygląd pasujący do charakteru aparatów Leica, płynne wkręcanie, a jednocześnie pomaga amortyzować wstrząsy mechaniczne.

Ultra-cienki profil bez ograniczeń dla aparatu
Cienka oprawa o profilu około 3,6 mm przylega ściśle do obiektywu i nie ogranicza korzystania z trybu makro ani standardowej obsługi aparatu.
Kompatybilny z Leica Q3 43 / Q3 28 / Q3 / Q2.

Kompatybilny również z osłoną przeciwsłoneczną
Konstrukcja filtra została zaprojektowana tak, aby jego założenie nie przeszkadzało w korzystaniu z osłony przeciwsłonecznej. Aparat zachowuje dzięki temu swoje standardowe możliwości użytkowania nawet z założonym filtrem.

Delikatne radełkowanie dla wygodnej manipulacji
Precyzyjnie obrobiona oprawa z delikatnym radełkowaniem ułatwia zakładanie i zdejmowanie filtra. Mosiężny gwint obraca się płynnie i został zaprojektowany do precyzyjnego dopasowania do obiektywu.

Praktyczne etui do ochrony filtra
W skład zestawu wchodzi również ochronne etui z prostym mechanizmem wysuwania, które ułatwia bezpieczne przechowywanie filtra podczas podróży i fotografowania w terenie.

| SPECYFIKACJA TECHNICZNA | |
|---|---|
| Przepuszczalność: | 99,9% |
| Szkło: | optyczne |
| Liczba nanowarstw | 36 |
| ZAWARTOŚĆ OPAKOWANIA | |
|---|---|
| 1) Filtr | |
| 2) Etui ochronne |
Opinie
Bądź pierwszą osobą, która napisze opinię do tego produktu.
| Firma produkcyjna : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adres : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |
.png)
