KF Concept Nano-X PRO MC UV filtr premium do Leica Q3 43/Q3 28/Q3/Q2 KF01.3235

Kod: 40012
Novinka BESTSELLER
Średnia ocena produktu wynosi 5,0 na 5 gwiazdek. 1 ocen
284,64 zł 235,24 zł bez VAT Cena jednostkowa:
W MAGAZYNIE W PRADZE
Możemy doręczyć do:
24. 8. 2026

Premiumowy filtr UV KF Concept Nano-X PRO MCUV dla Leica Q3 43, Q3 28, Q3 i Q2. Mosiężna oprawka ultra-slim, 36-warstwowa powłoka nano, odbijalność na poziomie 0,1% oraz wysoka ostrość bez ograniczania trybu makro lub osłony przeciwsłonecznej.

Informacje szczegółowe

szybka

Opis szczegółowy produktu

Nano-X PRO Series

KF Concept Nano-X PRO MCUV dla Leica

Premium filtr UV zaprojektowany dla Leica Q3 43, Q3 28, Q3 i Q2. Łączy precyzyjnie wykonane szkło optyczne, 36-warstwową powłokę nano oraz wyjątkowo cienką mosiężną oprawę.

KF Concept Nano-X PRO MCUV filtr – vícevrstvá optická konstrukce
36 warstw

Zaawansowana powłoka nano ogranicza odblaski, a jednocześnie chroni szkło przed wodą, tłuszczem i zarysowaniami.

Tylko 0,1% odblaskowości

Bardzo niska odblaskowość pomaga eliminować ghosting i flary, szczególnie podczas fotografowania pod światło.

Mosiężna oprawa

Mosiądz obrabiany CNC zapewnia precyzyjny gwint, najwyższą jakość wykonania oraz wysoką odporność mechaniczną.

Ochrona powierzchni

Woda, tłuszcz ani codzienne użytkowanie nie stanowią problemu

Powierzchnia filtra jest hydrofobowa, oleofobowa i odporna na zarysowania. Krople wody i zanieczyszczenia rzadziej przylegają do szkła, dzięki czemu filtr jest łatwiejszy w czyszczeniu i lepiej znosi codzienne użytkowanie.

Hydrofobní a proti poškrábání odolná vrstva filtru KF Concept
AGC Optical Glass

Premium szkło optyczne bez zbędnych kompromisów

Precyzyjnie wykonany element optyczny został zaprojektowany tak, aby zachować wysoką ostrość, detale i naturalne odwzorowanie obrazu nawet w aparatach o wysokiej rozdzielczości.

AGC optické sklo KF Concept Nano-X PRO
0,1% odblaskowości

Minimum odblasków nawet w trudnych warunkach pod światło

Zaawansowana 36-warstwowa powłoka nano redukuje odblaskowość do zaledwie 0,1 %. Dzięki temu pomaga ograniczyć niepożądane odblaski i ghosting, zachowując czystszy obraz o wyższym kontraście.

Porovnání obrazu s filtrem KF Concept s odrazivostí 0,1 procenta
Maksymalny detal

Bez utraty ostrości

Każdy element optyczny jest precyzyjnie szlifowany przy użyciu maszyn polerskich Makita dla zapewnienia maksymalnej dokładności i koncentryczności. Konstrukcja została zaprojektowana z myślą o zachowaniu subtelnych detali nawet w matrycach 60MP aparatów Leica.

Ukázka zachování ostrosti s filtrem KF Concept Nano-X PRO
Mosiężna oprawa

Nowa oprawa mosiężna obrabiana CNC

Zamiast zwykłego stopu aluminium, Nano-X PRO wykorzystuje wysokiej jakości mosiądz. Materiał zapewnia premiumowy wygląd pasujący do charakteru aparatów Leica, płynne wkręcanie, a jednocześnie pomaga amortyzować wstrząsy mechaniczne.

Mosazný CNC rámeček KF Concept Nano-X PRO MCUV
Zaprojektowany dla Leica Q

Ultra-cienki profil bez ograniczeń dla aparatu

Cienka oprawa o profilu około 3,6 mm przylega ściśle do obiektywu i nie ogranicza korzystania z trybu makro ani standardowej obsługi aparatu.

Kompatybilny z Leica Q3 43 / Q3 28 / Q3 / Q2.

Ultra tenký KF Concept MCUV filtr na fotoaparátu Leica
Bez ograniczeń

Kompatybilny również z osłoną przeciwsłoneczną

Konstrukcja filtra została zaprojektowana tak, aby jego założenie nie przeszkadzało w korzystaniu z osłony przeciwsłonecznej. Aparat zachowuje dzięki temu swoje standardowe możliwości użytkowania nawet z założonym filtrem.

KF Concept Nano-X PRO filtr kompatibilní se sluneční clonou Leica
Precyzyjne CNC

Delikatne radełkowanie dla wygodnej manipulacji

Precyzyjnie obrobiona oprawa z delikatnym radełkowaniem ułatwia zakładanie i zdejmowanie filtra. Mosiężny gwint obraca się płynnie i został zaprojektowany do precyzyjnego dopasowania do obiektywu.

CNC vroubkování a závit filtru KF Concept Nano-X PRO
Bezpieczne przechowywanie

Praktyczne etui do ochrony filtra

W skład zestawu wchodzi również ochronne etui z prostym mechanizmem wysuwania, które ułatwia bezpieczne przechowywanie filtra podczas podróży i fotografowania w terenie.

Ochranné pouzdro na filtr KF Concept

SPECYFIKACJA TECHNICZNA
Przepuszczalność: 99,9%
Szkło: optyczne
Liczba nanowarstw 36

ZAWARTOŚĆ OPAKOWANIA
1) Filtr
2) Etui ochronne

Opinie

Bądź pierwszą osobą, która napisze opinię do tego produktu.

Nie wypełniaj tego pola:

Kontrola bezpieczeństwa

Firma produkcyjna : Cross Global GmbH
Adres : Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany
E-mail : shiyao@crossglobalgroup.com
Grafický návrh vytvořil a nakódoval Shoptetak.cz