Filtr polaryzacyjny KF Concept Nano-X MRC CPL (55 mm) KF01.994V1
Kod: 981078Produkty powiązane
Uniwersalny zestaw do czyszczenia obiektywów, monitorów LCD, komputerów, ekranów itp.
Pierścień step-up 52 → 55 mm wkręcasz w obiektyw z gwintem 52 mm i z przodu masz gwint 55 mm. Dzięki temu używasz jednego filtra 55 mm na mniejszym i większym obiektywie i...
Wytrzymałe etui na maksymalnie cztery filtry o średnicy do 95 mm marki K&F Concept.
Zestaw filtrów zbliżeniowych z nylonowym etui. Soczewki makro z gwintem 55 mm do obiektywu. Ø Wybierz średnicę filtra49 mm 52 mm 55 mm 58 mm 62 mm 67 mm 72 mm 77 mm 82 mm...
CINE-X MC UV Ø 55 mm to przezroczysty filtr ochronny do zdjęć i filmów. Wielowarstwowe powłoki MC, przepuszczalność do 99,8% i cienka oprawka pomagają chronić przednią soczewkę...
K&F Concept Nano-X MCUV 55 mm to cienki filtr ochronny, który zamiast przedniej soczewki przyjmie piasek, krople, odciski palców i rysy od czyszczenia. Ma 28 warstw powłok,...
Wysokiej jakości cienki filtr polaryzacyjny MC CPL 55 mm firmy KF Concept. O Wybierz średnicę filtra37 mm 40,5 mm 43 mm 46 mm 49 mm 52 mm 55 mm 58 mm 62 mm 67 mm 72 mm 77 mm 82...
Trzy wkręcane filtry K&F Concept do obiektywów z gwintem 55 mm w jednym zestawie. MCUV chroni przednią soczewkę przed kurzem, kroplami i odciskami palców, CPL tłumi odblaski...
Opis szczegółowy produktu
Ø Wybierz średnicę filtra

Filtr KF Concept Nano-X MCUV został zaprojektowany z wykorzystaniem zaawansowanej technologii 28 warstw wielowarstwowych powłok nanotechnologicznych, które skutecznie blokują szkodliwe promieniowanie UV i zmniejszają ryzyko niepożądanej mgły na zdjęciach. Filtr ten poprawia również kontrast i ogólną ostrość zdjęć, co przekłada się na wyższą jakość uzyskanych ujęć. Oprócz poprawy optycznej, filtr oferuje ochronę obiektywu przed kurzem, wodą, odciskami palców i zarysowaniami, co czyni go idealnym wyborem do codziennego fotografowania w różnych warunkach.



| SPECYFIKACJA TECHNICZNA | |
|---|---|
| Typ filtra: | CPL |
| Średnica filtrów: | Średnica filtra jest podana w nazwie produktu |
| Grubość ramki: | 5,3 mm |
| Materiał ramki: | Lotniczy stop aluminium, japońskie szkło AGC |
| Współczynnik odbicia: | 0,2% |
| ZAWARTOŚĆ OPAKOWANIA | |
|---|---|
| 1) Filtr | |
| 2) Etui |
Wysokiej jakości cienki filtr polaryzacyjny MC CPL 55 mm firmy KF Concept. O Wybierz średnicę filtra37 mm 40,5 mm 43 mm 46 mm 49 mm 52 mm 55 mm 58 mm 62 mm 67 mm 72 mm 77 mm 82...
Filtr polaryzacyjny K&F Concept True Color tłumi odblaski na wodzie i szkle oraz pogłębia błękit nieba, bez żółtego odcienia, który dodaje wiele polaryzatorów. 28 warstw...
Trzy wkręcane filtry K&F Concept do obiektywów z gwintem 55 mm w jednym zestawie. MCUV chroni przednią soczewkę przed kurzem, kroplami i odciskami palców, CPL tłumi odblaski...
MEGA Zestaw 3 filtrów K&F Concept Nano-D MCUV+CPL+ND1000 + dwie zakrywki z ściereczkami. Zestaw 3 filtrów K&F Concept Nano-D MCUV+CPL+ND1000 zapewnia wszechstronną...
Zmienny ND4–ND64 (od 2 do 6 przysłon) i polaryzacyjny CPL w jednej oprawie – K&F Concept z serii Nano-X na gwint 55 mm. Pomarańczowymi dźwigniami przyciemnisz światło do...
Trzy filtry w jednej ramce: zmienny ND2–32, polaryzacyjny CPL i Black Mist 1/4. Obrotem odejmujesz 1–5 EV światła, polaryzacja tłumi odblaski, a efekt mgiełki zmiękcza rysunek i...
Zestaw trzech profesjonalnych filtrów fotograficznych K&F Concept CPL ND8 ND64. Zestaw idealnie nadaje się do fotografowania przyrody dzięki korzystnym wartościom ND8 i...
Polaryzator i zmienny ND w jednej oprawie. K&F Concept Nano-X True Color ND2–32 + CPL na gwint 55 mm zabiera od 1 do 5 EV światła i jednocześnie tłumi odblaski na wodzie,...
Opinie
Bądź pierwszą osobą, która napisze opinię do tego produktu.
| Firma produkcyjna : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adres : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |
.png)
