.png){kind=logo}
Filtr polaryzacyjny KF Concept Nano-X MRC CPL (55 mm) KF01.994V1
Kod: 981078
Produkty powiązane
Opis szczegółowy produktu
Filtr KF Concept Nano-X MCUV został zaprojektowany z wykorzystaniem zaawansowanej technologii 28 warstw wielowarstwowych powłok nanotechnologicznych, które skutecznie blokują szkodliwe promieniowanie UV i zmniejszają ryzyko niepożądanej mgły na zdjęciach. Filtr ten poprawia również kontrast i ogólną ostrość zdjęć, co przekłada się na wyższą jakość uzyskanych ujęć. Oprócz poprawy optycznej, filtr oferuje ochronę obiektywu przed kurzem, wodą, odciskami palców i zarysowaniami, co czyni go idealnym wyborem do codziennego fotografowania w różnych warunkach.
Wybierz średnicę filtra
| SPECYFIKACJA TECHNICZNA | |
|---|---|
| Typ filtra: | CPL |
| Średnica filtrów: | Średnica filtra jest podana w nazwie produktu |
| Grubość ramki: | 5,3 mm |
| Materiał ramki: | Lotniczy stop aluminium, japońskie szkło AGC |
| Współczynnik odbicia: | 0,2% |
| ZAWARTOŚĆ OPAKOWANIA | |
|---|---|
| 1) Filtr | |
| 2) Etui |
Opinie
Bądź pierwszą osobą, która napisze opinię do tego produktu.
| Firma produkcyjna : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adres : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |