Filtr polaryzacyjny KF Concept Nano-X MRC CPL (86mm) KF01.1362V1
Kod: 981085Produkty powiązane
Uniwersalny zestaw do czyszczenia obiektywów, monitorów LCD, komputerów, ekranów itp.
Uniwersalny zestaw ściereczek czyszczących z mikrofibry do obiektywów, monitorów LCD, komputerów, ekranów itp.
Uniwersalna ściereczka czyszcząca z mikrofibry do obiektywów, monitorów LCD, komputerów, ekranów itp.
Zestaw filtrów magnetycznych K&F Concept zawiera filtry MCUV, CPL i ND1000. Filtry są wodoodporne, odporne na zarysowania i posiadają antyrefleksyjną zieloną powłokę....
Filtr KF Concept Nano-X MCUV z 18 warstwami nanopowłok oferuje doskonałą ochronę obiektywu przed promieniowaniem UV, kurzem i zarysowaniami, jednocześnie poprawiając czystość i...
Profesjonalny filtr Nano-X zmienny 86 mm ND2-32 firmy KF Concept, z powłoką antyrefleksyjną, odporny na zarysowania i wodę. O Wybierz średnicę filtra37 mm 40,5 mm 43 mm 46 mm...
Filtr KF Concept Nano-X zmienny ND2-400 to zmienny filtr ND klasy premium wykonany z japońskiego szkła optycznego AGC z 28-warstwowymi powłokami antyrefleksyjnymi, zapewniający...
Profesjonalny filtr Nano-X 86 mm ND1000 firmy KF Concept, z powłoką antyrefleksyjną, odporny na zarysowania i wodę. .ft-filter-compact,.ft-filter-compact...
Opis szczegółowy produktu
Ø Wybierz średnicę filtra

Filtr KF Concept Nano-X MCUV został zaprojektowany z wykorzystaniem zaawansowanej technologii 28 warstw wielowarstwowych powłok nanotechnologicznych, które skutecznie blokują szkodliwe promieniowanie UV i zmniejszają ryzyko niepożądanej mgły na zdjęciach. Filtr ten poprawia również kontrast i ogólną ostrość zdjęć, co przekłada się na wyższą jakość uzyskanych ujęć. Oprócz poprawy optycznej, filtr oferuje ochronę obiektywu przed kurzem, wodą, odciskami palców i zarysowaniami, co czyni go idealnym wyborem do codziennego fotografowania w różnych warunkach.



| SPECYFIKACJA TECHNICZNA | |
|---|---|
| Typ filtra: | CPL |
| Średnica filtrów: | Średnica filtra jest podana w nazwie produktu |
| Grubość ramki: | 5,3 mm |
| Materiał ramki: | Lotniczy stop aluminium, japońskie szkło AGC |
| Współczynnik odbicia: | 0,2% |
| ZAWARTOŚĆ OPAKOWANIA | |
|---|---|
| 1) Filtr | |
| 2) Etui |
Zestaw filtrów magnetycznych K&F Concept zawiera filtry MCUV, CPL i ND1000. Filtry są wodoodporne, odporne na zarysowania i posiadają antyrefleksyjną zieloną powłokę....
Filtr KF Concept Nano-X MCUV z 18 warstwami nanopowłok oferuje doskonałą ochronę obiektywu przed promieniowaniem UV, kurzem i zarysowaniami, jednocześnie poprawiając czystość i...
Profesjonalny filtr Nano-X zmienny 86 mm ND2-32 firmy KF Concept, z powłoką antyrefleksyjną, odporny na zarysowania i wodę. O Wybierz średnicę filtra37 mm 40,5 mm 43 mm 46 mm...
Filtr KF Concept Nano-X zmienny ND2-400 to zmienny filtr ND klasy premium wykonany z japońskiego szkła optycznego AGC z 28-warstwowymi powłokami antyrefleksyjnymi, zapewniający...
Profesjonalny filtr Nano-X 86 mm ND1000 firmy KF Concept, z powłoką antyrefleksyjną, odporny na zarysowania i wodę. .ft-filter-compact,.ft-filter-compact...
Filtr KF Concept Nano-X ultra-przejrzysty 1/8 Black Diffusion (86 mm), który delikatnie rozprasza światło i zmniejsza ostrość obrazu, nadając mu filmowy wygląd. Dzięki...
Filtr KF Concept Nano-X zmienny ND2–32 to profesjonalny filtr szary neutralny 82 mm z płynną regulacją intensywności (ND2–ND32). Dzięki zaawansowanej technologii eliminuje efekt...
Profesjonalny filtr Nano-X 86 mm ND1000 firmy KF Concept, z powłoką antyrefleksyjną, odporny na zarysowania i wodę. .ft-filter-compact,.ft-filter-compact...
Opinie
Bądź pierwszą osobą, która napisze opinię do tego produktu.
| Firma produkcyjna : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adres : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |
.png)
