.png){kind=logo}
KF Concept Nano-X MRC CPL polarizačný filter (55mm) KF01.994V1
Kód: 981078
Súvisiaci tovar
Podrobný popis
KF Concept Nano-X MCUV filter je navrhnutý s pokročilou technológiou 28 vrstiev viacvrstvových nanotechnologických povlakov, ktoré efektívne blokujú škodlivé UV žiarenie a znižujú riziko nechcenej hmly na fotografiách. Tento filter tiež zlepšuje kontrast a celkovú ostrosť snímok, čo vedie k vyššej kvalite snímok. Okrem optických vylepšení ponúka filter aj ochranu objektívu pred prachom, vodou, odtlačkami prstov a poškriabaním, takže je ideálnou voľbou na každodenné fotografovanie v rôznych podmienkach.
Vyberte priemer filtra
| TECHNICKÉ ŠPECIFIKÁCIE | |
|---|---|
| Typ filtra: | CPL |
| Priemer filtrov: | Priemer filtra je uvedený v názve produktu. |
| Hrúbka rámu: | 5,3 mm |
| Materiál rámu: | Letecká hliníková zliatina, Japonské AGC sklo |
| Odrazivosť: | 0,2% |
| OBSAH BALENIA | |
|---|---|
| 1) Filter | |
| 2) Bývanie |
Diskusia
Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.
| Výrobná spoločnosť : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adresa : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |