.png){kind=logo}
KF Concept Nano-X MRC CPL polarizační filtr (55mm) KF01.994V1
Kód: 981078Související produkty
Detailní popis produktu
Vyberte průměr filtru
KF Concept Nano-X MCUV filtr je navržen s pokročilou technologií 28 vrstev vícevrstvých nanotechnologických povlaků, které efektivně blokují škodlivé UV záření a snižují riziko nechtěné mlhy na fotografiích. Tento filtr také zlepšuje kontrast a celkovou ostrost snímků, čímž přináší vyšší kvalitu výsledných záběrů. Kromě optického vylepšení nabízí filtr ochranu objektivu před prachem, vodou, otisky prstů a poškrábáním, což z něj dělá ideální volbu pro každodenní fotografování v různých podmínkách.
| TECHNICKÉ SPECIFIKACE | |
|---|---|
| Typ filtru: | CPL |
| Průměr filtrů: | Průměr filtru je uveden v názvu produktu |
| Tloušťka rámečku: | 5,3 mm |
| Materiál rámečku: | Letecká hliníková slitina, Japonské AGC sklo |
| Odrazivost: | 0,2% |
| OBSAH BALENÍ | |
|---|---|
| 1) Filtr | |
| 2) Pouzdro |
Diskuze
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
| Výrobní společnost : | Cross Global GmbH |
|---|---|
| Adresa : | Carl-Benz-Str. 35 60386, Frankfurt am Main, Hessen Germany |
| E-mail : | shiyao@crossglobalgroup.com |